La startup estadounidense Substrate está desarrollando un nuevo sistema de litografía de rayos X (XRL), impulsado por una fuente de luz basada en acelerador de partículas, que promete un rendimiento superior y una eficiencia de costos en comparación con la litografía EUV estándar, con el objetivo de lograr resoluciones equivalentes a los procesos de clase 2nm de ASML. La firma también afirma que puede avanzar más allá de eso. Substrate también afirma que sus esfuerzos serán más baratos de producir que los de la competencia y ofrecerán resolucio
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El tema de los rayos X es porque tienen un longitud de onda inferior a los UV y eso permite "surcos"(ejem, ejem) más finos que los UV.
Veremos como evoluciona porque esto no es para 2026 ni para 2027 ni para 2028.
Ya solo falta dominar los rayos gamma y llegaremos al limite de la fisica clasica
Creo que andamos cerquita .. ya se habla de efectos cuánticos en las pistas actuales (o que falta poco) Lo que he leido es que el silicio está a punto de llegar al límite, así que igual en 10 años usamos otro material.
Eso sí que es un flipe.
Recuerdo uno en concreto, creo que se llamaba Jaen's, que estaba hecho con papel reciclado, era de color gris oscuro, estaba un poco arrugadito (de ahí la lija) y se vehían trozitos de letras, y de vez en cuando alguna letra entera.
No necesitabas llevarte
ninguna revistael móvil al cuarto de baño, te entretenías "buscando a Wally" con el papel.De eso hace 30-40 años. Hace mucho que no lo veo por ninguna parte.
Todas esta noticias de avances tecnológicos (en cualquier disciplina se han de cogen con pinzas).
Correcto, por eso digo "veremos como evoluciona"
para mañana el MSS tiene pinchado todos los celulares de esa empresa
Mucha palabrería para decir laser de rayos X.