La startup estadounidense Substrate está desarrollando un nuevo sistema de litografía de rayos X (XRL), impulsado por una fuente de luz basada en acelerador de partículas, que promete un rendimiento superior y una eficiencia de costos en comparación con la litografía EUV estándar, con el objetivo de lograr resoluciones equivalentes a los procesos de clase 2nm de ASML. La firma también afirma que puede avanzar más allá de eso. Substrate también afirma que sus esfuerzos serán más baratos de producir que los de la competencia y ofrecerán resolucio

Desde hace semanas un "grupo de trabajo" desarrolla este nuevo proyecto electoral. Se presentará en "enero o febrero". Dan el primer paso para reorganizar el espacio progresista

Reduflacción, marca blanca, IRPH o euríbor siguen siendo expresiones frecuentes con las que estamos cada vez más familiarizados. Otros términos, en cambio, lo vamos asimilando un poco más despacio. Es el caso de anglicismos como house flipping, kidult o cashback. Estos vocablos de la lengua inglesa que empleamos como si fueran ya nuestros conviven con otros como patrones oscuros, oniomanía o superdepósitos