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ASML aumenta la potencia de sus sistemas de litografía EUV a 1.000W: +50% de producción de chips y ahorro de costes

ASML aumenta la potencia de sus sistemas de litografía EUV a 1.000W: +50% de producción de chips y ahorro de costes

ASML anunció una importante mejora con sus sistemas de litografía EUV que cambiará el panorama de los chips por "únicamente" aumentar su potencia hasta los 1.000W de energía. Según la compañía, el equipo de I+D de ASML ha logrado elevar la potencia de la fuente de luz de sus sistemas de litografía EUV hasta los 1.000 vatios. Esto supone un gran salto respecto a los actuales 600W. Gracias a este aumento de potencia, la compañía holandesa sostiene que sus sistemas de litografía EUV serán capaces de aumentar la producción de cada máquina en un 50%

| etiquetas: asml , chips
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